Silanjest związkiem krzemu i wodoru i jest ogólnym terminem określającym szereg związków. Silan obejmuje głównie monosilan (SiH4), disilan (Si2H6) i niektóre wodorowe związki krzemu wyższego poziomu, o ogólnym wzorze SinH2n+2. Jednakże w rzeczywistej produkcji monosilan (wzór chemiczny SiH4) ogólnie nazywamy „silanem”.

Klasa elektronicznagaz silanowyotrzymywany jest głównie w drodze różnych destylacji reakcyjnych i oczyszczania proszku krzemu, wodoru, tetrachlorku krzemu, katalizatora itp. Silan o czystości od 3 N do 4 N nazywany jest silanem klasy przemysłowej, a silan o czystości większej niż 6 N nazywany jest silanem elektronicznym. gaz silanowy klasy.

Jako źródło gazu do przenoszenia składników krzemowych,gaz silanowystał się ważnym gazem specjalnym, którego nie można zastąpić wieloma innymi źródłami krzemu ze względu na jego wysoką czystość i możliwość uzyskania dokładnej kontroli. Monosilan generuje krzem krystaliczny w wyniku reakcji pirolizy, która jest obecnie jedną z metod produkcji na dużą skalę granulowanego krzemu monokrystalicznego i krzemu polikrystalicznego na świecie.

Charakterystyka silanu

Silan (SiH4)to bezbarwny gaz, który reaguje z powietrzem i powoduje uduszenie. Jego synonimem jest wodorek krzemu. Wzór chemiczny silanu to SiH4, a jego zawartość sięga aż 99,99%. W temperaturze pokojowej i pod ciśnieniem silan jest cuchnącym toksycznym gazem. Temperatura topnienia silanu wynosi -185 ℃, a temperatura wrzenia -112 ℃. W temperaturze pokojowej silan jest stabilny, ale po podgrzaniu do 400 ℃ całkowicie rozpadnie się na gazowy krzem i wodór. Silan jest łatwopalny i wybuchowy i pali się wybuchowo w powietrzu lub gazie halogenowym.

Pola aplikacji

Silan ma szerokie zastosowanie. Oprócz tego, że jest najskuteczniejszym sposobem przyłączania cząsteczek krzemu do powierzchni ogniwa podczas produkcji ogniw słonecznych, jest on również szeroko stosowany w zakładach produkcyjnych, takich jak półprzewodniki, wyświetlacze płaskoekranowe i szkło powlekane.

Silanjest źródłem krzemu do procesów chemicznego osadzania z fazy gazowej, takich jak krzem monokrystaliczny, płytki epitaksjalne z krzemu polikrystalicznego, dwutlenek krzemu, azotek krzemu i szkło fosforokrzemianowe w przemyśle półprzewodników i jest szeroko stosowany w produkcji i rozwoju ogniw słonecznych, krzemowych bębnów kopiarek , czujniki fotoelektryczne, światłowody i szkło specjalne.

W ostatnich latach wciąż pojawiają się zaawansowane technologicznie zastosowania silanów, obejmujące produkcję zaawansowanej ceramiki, materiałów kompozytowych, materiałów funkcjonalnych, biomateriałów, materiałów wysokoenergetycznych itp., stając się podstawą wielu nowych technologii, nowych materiałów i nowych urządzenia.