Silanejest związkiem krzemu i wodoru i jest ogólnym terminem dla serii związków. Silan obejmuje głównie monosilan (SIH4), disilane (SI2H6) i niektóre związki wodoru na silikonie wyższego poziomu, z ogólną formułą sinh2n+2. Jednak w rzeczywistej produkcji ogólnie odnosimy się do monosilanu (wzór chemiczny SIH4) jako „silane”.

Klasa elektronicznaSilan Gasjest uzyskiwany głównie przez różne reakcje destylacyjne i oczyszczanie proszku krzemu, wodór, tetrachlor krzemowy, katalizator itp. Silan o czystości 3N do 4N nazywany jest silanem klasy przemysłowej, a silan o czystości więcej niż 6N nazywany jest gazem elektronicznym.

Jako źródło gazu do przenoszenia komponentów krzemowych,Silan Gasstał się ważnym specjalnym gazem, którego nie można zastąpić wieloma innymi źródłami krzemu ze względu na jego wysoką czystość i zdolność do osiągnięcia drobnej kontroli. Monosilan generuje krystaliczny krzem poprzez reakcję pirolizy, która jest obecnie jedną z metod produkcji ziarnistego monokrystalicznego krzemu i polikrystalicznego krzemowego krzemu i polikrystalicznego krzemu.

Charakterystyka silana

Silane (SIH4)jest bezbarwnym gazem, który reaguje z powietrzem i powoduje uduszenie. Jego synonimem jest wodorek krzemu. Chemiczna formuła silanu wynosi SIH4, a jej zawartość wynosi nawet 99,99%. W temperaturze pokojowej i ciśnieniu Silane jest pysznym toksycznym gazem. Temperatura topnienia Silane wynosi -185 ℃, a temperatura wrzenia wynosi -112 ℃. W temperaturze pokojowej silane jest stabilne, ale po podgrzaniu do 400 ℃ całkowicie rozkłada się na gazowy krzem i wodór. Silan jest łatwopalny i wybuchowy, a spaliby wybuchowo w gazie powietrznym lub halogenowym.

Pola aplikacji

Silane ma szeroki zakres zastosowań. Oprócz tego, że jest najskuteczniejszym sposobem przymocowania cząsteczek krzemu do powierzchni komórki podczas produkcji ogniw słonecznych, jest on również szeroko stosowany w roślinach produkcyjnych, takich jak półprzewodniki, wyświetlacze płaskich paneli i powlekane szkło.

Silanejest krzemionowym źródłem chemicznych procesów osadzania pary, takich jak pojedynczy kryształ krzem, polikrystaliczny krzem epitaksjalny, dwutlenek silikonu, krzemowy azotek i szklanki fosfokokomiczne w przemyśle półprzewodników i jest szeroko stosowane w produkcji i rozwoju słonecznych komórek solarnych, krzemowskie.

W ostatnich latach wciąż pojawiają się zaawansowane technologicznie zastosowania silanów, w tym produkcja zaawansowanej ceramiki, materiałów kompozytowych, materiałów funkcjonalnych, biomateriałów, materiałów o wysokiej energii itp., Stając się podstawą wielu nowych technologii, nowych materiałów i nowych urządzeń.