Powszechnie stosowane specjalne gazy elektroniczne zawierające fluor obejmująsześciofluorek siarki (SF6), sześciofluorek wolframu (WF6),czterofluorek węgla (CF4), trifluorometan (CHF3), trifluorek azotu (NF3), heksafluoroetan (C2F6) i oktafluoropropan (C3F8).
Wraz z rozwojem nanotechnologii i zakrojonym na szeroką skalę rozwojem przemysłu elektronicznego jego zapotrzebowanie będzie rosło z dnia na dzień. Trójfluorek azotu, jako niezbędny i najczęściej stosowany specjalny gaz elektroniczny w produkcji i przetwarzaniu paneli i półprzewodników, ma szeroką przestrzeń rynkową.
Jako rodzaj gazu specjalnego zawierającego fluor,trifluorek azotu (NF3)to elektroniczny produkt na gaz specjalny o największej pojemności rynkowej. Jest chemicznie obojętny w temperaturze pokojowej, bardziej aktywny niż tlen w wysokiej temperaturze, bardziej stabilny niż fluor i łatwy w obsłudze. Trifluorek azotu stosuje się głównie jako gaz trawiący plazmę i środek czyszczący komorę reakcyjną i nadaje się do produkcji chipów półprzewodnikowych, wyświetlaczy płaskich, włókien optycznych, ogniw fotowoltaicznych itp.
W porównaniu z innymi gazami elektronicznymi zawierającymi fluor,trifluorek azotuma zalety szybkiej reakcji i wysokiej wydajności. Szczególnie przy trawieniu materiałów zawierających krzem, takich jak azotek krzemu, charakteryzuje się dużą szybkością trawienia i selektywnością, nie pozostawiając żadnych pozostałości na powierzchni wytrawionego przedmiotu. Jest również bardzo dobrym środkiem czyszczącym i nie powoduje zanieczyszczeń na powierzchni, co może zaspokoić potrzeby procesu przetwarzania.
Czas publikacji: 14 września 2024 r
